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真空鍍膜生產線
| 詳細信息  
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該系列生產線主要用于在平板玻璃、壓克力、PC、PET等表面鍍高質量、多功能金屬膜、電磁屏蔽膜、反應膜、復合膜、透明導電膜、抗反射(AR)、增反射膜、LOw—E等膜層。本公司可按用戶要求提供設計,提供全套設備,負責工藝,按交“鑰匙”工程服務。
設備特點:
  1、設備采用真空磁控濺射技術,孿生陰極,中頻濺射技術,并配以先進的控制系統(tǒng).
  2、生產過程全部自動,連續(xù)進行。被鍍工件加熱溫度最高可達350℃,溫度分區(qū)控制可調,
  3.  真空室體材料采用SUS304,真空室內壁進行拋光處理,外壁采用拋光后 噴珠處理。
  4、真空室之間采用獨立門閥隔開,我們設計的是插板閥,可以有效隔斷,穩(wěn)定工藝氣體。目前國內只有我  們公司具有這項技術設計生產插板閥,它比目前國內通用的翻板閥密封效果更好,更耐用.
  5、傳動采用磁導向,保障傳動的穩(wěn)定性。整條生產線的各段速度采用變頻調速電機驅動,運行速度可調節(jié)
  6、電氣控制系統(tǒng):觸膜屏與P L C自動控制,人機對話方式來實現系統(tǒng)的數據顯示、操作與控制
  7、主要技術參數:
  8、極限真空壓力:7×10-4Pa
  9、平均生產周期:8 0秒/架
  10、基片架尺寸:8 5 0×1 5 0 0(mm)(可以根據要求定做)
  11、膜層均勻性:±2%
  12、膜層穩(wěn)定性:達到國際標準

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