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多弧離子鍍膜設(shè)備
| 詳細(xì)信息  
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此設(shè)備是一種高效、無害、無污染的離子鍍膜設(shè)備,具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設(shè)備操作簡單、成本低、生產(chǎn)量大的優(yōu)點(diǎn)。

真空電弧離子的原理是基冷陰極自持弧光放電結(jié)合脈沖技術(shù)及磁控濺射技術(shù),使沉積粒子細(xì)化,膜層的各項(xiàng)性能得以提高。它不僅能在金屬制品表面進(jìn)行鍍膜而且能在非金屬制品表面制品上進(jìn)行鍍膜,可以鍍金屬膜、氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻、及鈦、鎳、鉻、銅、等化合物膜、多層超硬膜、氮化鈦摻金膜和合金膜,并能在極短的時間內(nèi)完成全部加工工藝過程,是一種多功能高效鍍膜設(shè)備。廣泛應(yīng)用于工具、模具的超硬涂層,汽車輪轂、陶瓷、高爾夫、制表、酒店用品、衛(wèi)生潔具、燈具、眼鏡鏡架、五金制品的裝飾涂層等領(lǐng)域。

          型號

 

真空室尺寸

LH-800

LH-1000

LH-1250

¢800×1000MM

¢1000×1000MM

¢1250×1100MM

鍍膜方式及主要配置

八個多弧靶

十個多弧靶

十二個多弧源

鍍膜方式及主要配置

電弧電源、燈絲電源、脈沖偏壓電源

工藝氣體控制

質(zhì)量流量計(jì)+電磁陶瓷閥

真空室結(jié)構(gòu)

立式側(cè)(單)開門結(jié)構(gòu),后置抽氣系統(tǒng),雙層水冷

真空系統(tǒng)組成

分子泵+羅茨泵+機(jī)械泵(5.0×10-4PA),擴(kuò)散泵+羅茨泵+機(jī)械泵(5.0×10-4PA)

工件烘烤溫度

常溫到350度可調(diào)可控(PID控溫),輻射加熱

工件運(yùn)動方式

公自轉(zhuǎn)變頻調(diào)速,0~20轉(zhuǎn)/分

測量方式

數(shù)顯復(fù)合真空計(jì):測量范圍從大氣至1.0×10-5PA

控制方式

手動/自動/PC/PLC+HMI/PC四種方式可選

備注

以上設(shè)備可按客戶實(shí)際及特殊工藝要求設(shè)計(jì)訂做

 


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