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磁控蒸發(fā)兩用鍍膜設備
| 詳細信息  
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磁控蒸發(fā)兩用鍍膜設備利用磁控濺射陰極輝光放電將原子(靶材)離化沉積在基材上(物理氣相沉積PVD)和真空中利用電阻加熱法將金屬絲熔融或金屬分子汽化,對基材、手機殼等塑料表面進行金屬化、利用特定薄膜涂層實現(xiàn)產(chǎn)品不導電和電磁的作用,以滿足現(xiàn)行手機的高端電子產(chǎn)品制造行業(yè)標準;
設備集中了等離子體處理,高端陰極磁控濺射,、電阻蒸發(fā)鍍膜裝置,大裝載量轉架和自動化控制技術,工作可靠、重復性一致性良好、沉積速率高快,附著力好,膜層品質細膩等,鍍制的薄膜致密硬度高,磨擦系數(shù)低,可保持原有工件表面光潔,具有韌性好,不易破裂脫落。設備實現(xiàn)鍍膜工藝全自動化控制。在基材表面利用真空鍍膜方法進行涂層,具有生產(chǎn)成本低、產(chǎn)品合格率高、綠色環(huán)保等特點,主要適用于電腦、手機、高端工業(yè)(家用)電子電器、航空等領域,,可鍍制復合金屬膜、合金膜、透明(半透明)膜、不導電膜、電磁膜及特殊膜層等。

          型號
 
真空室尺寸
JLZ-1000
JTZ-1200
JTZ-1400
JTZ1400
¢1000×1000MM
¢1200×1400MM
¢1400×1600MM
¢1400×1900MM
制膜種類
金屬膜、半透明膜、不導電膜、電磁膜、介質膜等
電源類型
電阻蒸發(fā)電源、直流磁控電源、射頻電源
濺射及電極結構
圓柱磁控靶、平面矩形靶、孿生靶、蒸發(fā)電極
真空室結構
立式雙開門、立式單開門、后置抽氣系統(tǒng)/臥式單開門、側置抽氣系統(tǒng)
極限真空
4.0×10-4PA
真空系統(tǒng)組成
擴散泵+羅茨泵+機械泵+維持泵
抽氣時間
從大氣抽至8.5×10-3PA,小于或等于15分鐘
工件運動方式
公自轉/變頻調速
控制方式
手動/自動一體化式,觸摸屏+PLC
備注
以上設備可按客戶實際及特殊工藝要求設計訂做

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